ナノインプリント

ナノインプリント法は数10nm~数100nmの極微細加工した金型を樹脂や硝子に押し付け短時間に同一形状の部品を大量に作り出す技術として注目されてきました。

その方法も熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式とUV硬化樹脂を使用し、UV光により硬化させる光硬化方式と大別されます 。

Model TM-02

本装置のナノインプリント装置は、熱硬化と光硬化の両方を兼ね備えた双方の方式をこの一台で実現でき上部からの印圧によってインプリントを行ないます。

それぞれの必要とされるプレス荷重・速度、剥離荷重・剥離速度の設定はもちろんの事、研究・開発試作製作に必要とされる様々な条件や測定結果がPCにロギング出来る為、今後の生産への条件出しに一役買う装置です。


【本装置仕様】

  • インプリント方法 ・・・・・・・熱硬化方式/光硬化方式
  • プレス/荷重速度(総圧)  ・・・・1~1000μm/sec
  • 最大荷重  ・・・・・・・・・・室温~250℃まで
  • ワークサイズ ・・・・・・・・・・50×50mm


【試験条件】

  • 荷重検知
  • プレス速度
  • 剥離速度
  • 真空度・各温度
  • 香料
  • 各時間

Model TM-03

本装置は20mm×20mmの試料をインプリントできる小型の研究用装置です。これまで弊社で製作してきたインプリント装置は比較的大きい装置がおおく、またそれは世の中にあるインプリント装置の懸念されている研究コストの負担や設置場所の確保等の問題点を改善出来ていませんでした。

そこで弊社は小型で実験室のスペースを極力取らず尚且つ様々な条件で研究できる装置を製作しました。主に大学様の研究・実験を視野に入れた装置であり、ナノインプリント装置は導入コストが高いというイメージを払拭すると共に装置のサイズや使い勝手も考慮した結果このサイズのナノインプリント装置を製作致しました。インプリント方式は光硬化方式を採用し、グラフと表データをロギングできるようになっています。新しい技術で野実験を今までになく気軽に試作や製作をしてみませんか。


【本装置仕様】

  • インプリント方法 ・・・・・・・光硬化方式
  • UV装置性能  ・・・・・・・・・・光量 400mW/cm2 波長 最大365mm
  • プレス剥離荷重   ・・・・・・・・0.1~100N
  • 試料寸法  ・・・・・・・・・・20mm×20mm
  • プレス剥離速度・・・・・・・・・1~1000μm/sec
  • 電源・・・・・・・・・・・・・・AC100V
  • サンプル基板・・・・・・・・・・Siウェハ/ガラス基板
  • 装置重量・・・・・・・・・・・・約25kg

各データイメージ

Model TM-04

現在までナノインプリント装置は様々な場所で実験が重ねられており、実用化に向けて日々研究が行なわれています。弊社はこれまでに様々なインプリント装置を製作してきましたが、簡易型のインプリント装置は製作をしていませんでした。

そこで「持ち運びが出来る簡易型インプリント装置」をコンセプトにした光硬化式の電源も場所も選ばない今までにないナノインプリント装置を製作致しました。装置にはLED型UVランプを取付け、昇降はモーター駆動を採用し、昇降スピードの調整の操作は簡易的となっています。

転写する為のプレス荷重は最大200N印加でき、基材は最大Φ20が使用可能です。まずはインプリントを簡単な試験機で安価にサンプルの作成をしたいという方にお勧めの一台です。


【本装置仕様】

  • インプリント方法 ・・・・・・・光硬化方式
  • UV装置性能  ・・・・・・・・・・光量 6.0mW/cm2 -波長 最大370mm
  • プレス荷重   ・・・・・・・・・・1~20N
  • 試料寸法  ・・・・・・・・・・10mm×10mm
  • プレス剥離速度・・・・・・・・・20mm/sec
  • 電源・・・・・・・・・・・・・・AC100V or DC12V 2.3A 小型バッテリー
  • サンプル基板・・・・・・・・・・Siウェハ/ガラス基板
  • 装置寸法・・・・・・・・・・・・H469×W300×D200(mm)

装置写真

Model TMR-02

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